Informace o projektu
Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
- Kód projektu
- ME 367
- Období řešení
- 7/2000 - 6/2002
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Program KONTAKT (ME + MEB) (jen po projekty s počátkem řešení v roce 2010)
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Ve spolupráci s Institut fur anorganische materialien TU v Mnichově a SHM Šumperk bude prováděn vývoj a přenesení vyvinuté technologie do výrobního procesu pro nové supertvrdé nanokrystalické materiály typu TiN/AlN/SiN. Katedra fyzikální elektroniky se zaměří zejména na vývoj monitorování plazmochemických procesů probíhajících při depozici supertvdých vrstev. Bude využito zejména metod optické spektroskopie a metody sondové. Výsledkem spektrálních a sondových měření budou jednoduché detektory umož- ňující monitorování plazmochemického procesu tak, aby mechanické vlastnosti nanesených supertvrdých vrstev byly optimální. Na KFE PřF MU bude sestavena mikrovlnná aparatura typu ASTEX pro přípravu vrstev diamantového typu a vrstev typu BN. Bude rovněž vyvinuto další mikrovlnné depoziční zařízení umožňující generaci plazmatu s homogenním radiálním profilem. Bude vyvinut vysokofrekvenční generátor s induktivně buzeným plazmatem pro přípravu nanokompositních materiálů typu CN/SiO a materiálů typu CN/SiN.
Publikace
Počet publikací: 24
2001
-
Deposition of hard carbon films and its diagnostics
Juniormat'01, rok: 2001
-
Determination of Mechanical Properties of Thin Films by the Indentation Techniques
New Trends in Physics, rok: 2001
-
Diagnostics and monitoring of TiN/AlN deposition process
Rok: 2001, druh: Prezentace v oblasti VaV (AV tvorba, WEB aplikace apod.)
-
Modification of Plasma Deposited DLC Films by Hexamethyldisiloxane Addition
Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes, rok: 2001
-
Optical diagnostics of inductively coupled RF discharge
SAPP 13th Symposium Proceedings, rok: 2001
-
Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds
Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
-
Preparation of enhanced CN-based hard coatings by PECVD
Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
2000
-
Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge
Diamond and Related Materials, rok: 2000, ročník: 9, vydání: 7
-
HF-Plasma Pencil in Liquids
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50, vydání: S3
-
Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 2000, vydání: 50(S3)