Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	ELIÁŠ Marek ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma JANČA Jan
Rok publikování	2000
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Czechoslovak Journal of Physics
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Popis	Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek