Informace o projektu
Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
- Kód projektu
- GV106/96/K245
- Období řešení
- 1/1996 - 1/2000
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Komplexní projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
- Spolupracující organizace
-
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
- Odpovědná osoba Mgr. Martin Mišina, Dr.
- Odpovědná osoba doc. RNDr. Milan Hrabovský, CSc.
- Odpovědná osoba prof. Ing. Jindřich Musil, DrSc.
Cílem projektu je vyšetřit mechanismus vytváření tvrdých a supertvrdých povlaků, jako jsou nitridy přechodových kovů, tvrdé amorfní vrstvy typu SiOxNy, SiOxCy, SiOxCyHz a BN, diamantové povlaky a vrstvy typu CN, a vyvinout novou generaci tvrdých nanokompozitních povlaků tvořených nanokrystalickou fází a amorfní nebo kovovou matricí. Nanokompozitní vrstvy s ´tvrdou´matricí budou představovat nový druh supertvrdých povlaků s vysokou hodnotou Youngova modulu přužnosti. Nanokompozitní vrstvy s ´měkkou´matricí budou reprezentovat nový druh tvrdých povlaků s vyšší houževnatostí. K dosažení tohoto cíle bude prováděn koordinovaný systematický základní výzkum v následujících oblastech: (i) vytváření nanokrystalických a amorfních vrstev, (ii) vytváření ´vysokoteplotních fází´materiálů při nízkých teplotách substrátu (100 stupňů C a nižších), (iii) studium plazmochemických reakcí důležitých pro vytváření zmíněných materiálů, (iv) vzájemné mísení prvků povlaku a substrátu a (v) přilnavost tvrdých povlaků.
Publikace
Počet publikací: 32
2000
-
Additional microwave diagnostics of afterglow with ESR spectrometer
Microwave discharges: fundamentals and applications, rok: 2000
-
Analysis of Slightly Rough Thin Films by Optical Methods and AFM
Mikrochim. Acta, rok: 2000, ročník: 132, vydání: 1
-
Analysis of thin films by optical multi-sample methods
Acta Physica Slovaca, rok: 2000, ročník: 50, vydání: 4
-
Atomic force microscopy measurements of surface roughness quantities important in optics of surfaces and thin films
Proceedings of the 4th Seminar on Quantitative Microscopy, rok: 2000
-
Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge
Diamond and Related Materials, rok: 2000, ročník: 9, vydání: 7
-
Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 2000, vydání: 50(S3)
-
Influence of admixtures on production rate of atomic nitrogen
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50-S3, vydání: 50-S3
-
Low Pressure Plasma Treatment of Polycarbonate
Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Pressure Plasma, rok: 2000
-
Matrix formalism for imperfect thin films
Acta physica slovaca, rok: 2000, ročník: 50, vydání: 4
-
Optical diagnostics of inductively coupled RF discharge during deposition of nanocomposite CNx/SiOy films
Proceedings of 20th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases, rok: 2000