Informace o projektu
Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
- Kód projektu
- TA02010784 (kod CEP: TA02010784)
- Období řešení
- 1/2012 - 12/2015
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Technologická agentura ČR
- ALFA
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
- Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
- Mgr. David Nečas, Ph.D.
- Spolupracující organizace
-
Vysoké učení technické v Brně
- Odpovědná osoba Doc. RNDr. Miloslav Ohlídal, CSc.
- Odpovědná osoba Mgr. Petr Klapetek, Ph.D.
- Odpovědná osoba RNDr. Jiří Jankuj, CSc.
Vyvinutí nových metod návrhu systémů tenkých vrstev vyráběných v optickém průmyslu zahrnujících defekty vrstev a originálních metod charakterizace těchto systémů umožňujících zdokonalení kontroly kvality. Technologické změny depozice vrstevnatých systémů vyráběných v optickém průmyslu, jako jsou zrcadla s vysokou odrazivostí, antireflexní pokrytí, děliče světla a polarizátory, minimalizující jejich nedokonalosti především v ultrafialové oblasti spektra a umožňující nové progresivní aplikace.
Publikace
Počet publikací: 27
2015
-
Possibilities and limitations of imaging spectroscopic reflectometry in optical characterization of thin films
Conference on Optical Systems Design - Optical Fabrication, Testing, and Metrology V, rok: 2015
-
Simultaneous determination of dispersion model parameters and local thickness of thin films by imaging spectrophotometry
Applied Surface Science, rok: 2015, ročník: 350, vydání: SEP, DOI
-
Simultaneous determination of optical constants, local thickness, and local roughness of thin films by imaging spectroscopic reflectometry
Conference on Optical Systems Design - Optical Fabrication, Testing, and Metrology V, rok: 2015
-
Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia
Applied Optics, rok: 2015, ročník: 54, vydání: 31, DOI
-
Wide spectral range characterization of antireflective coatings and their optimization
Conference on Optical Systems Design - Optical Fabrication, Testing, and Metrology V, rok: 2015
2014
-
Antireflexní vrstva (Al2O3/MgF2) pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva (SiO2/Al2O3/MgF2) pro dalekou ultrafialovou (FUV, VUV) oblast spektra na vlnové délce 193nm
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva z materiálů Al2O3/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva z materiálů Al2O3/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm pro úhel dopadu 45°
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva z materiálů HfO2/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Rok: 2014