Plasma treatment of silicon surface by DCSBD

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SKÁCELOVÁ Dana SŤAHEL Pavel HANIČINEC Martin ČERNÁK Mirko
Rok publikování	2011
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Acta Technica CSAV
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Silicon surface plasma treatment DBD discharge AFM contact angle measurement
Popis	This paper focuses on the plasma treatment of crystalline Si (100) surface. The plasma was generated by Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) at atmospheric pressure using ambient atmosphere. Surface free energy of silicon was investigated by contact angle measurement and surface morphology was studied by Atomic force microscope. Plasma treatment increases the surface wettability and AFM measurements showed that the plasma influences also the surface roughness.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku