Plasma treatment of silicon surface by DCSBD

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

SKÁCELOVÁ Dana SŤAHEL Pavel HANIČINEC Martin ČERNÁK Mirko

Rok publikování 2011
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Acta Technica CSAV
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Silicon surface plasma treatment DBD discharge AFM contact angle measurement
Popis This paper focuses on the plasma treatment of crystalline Si (100) surface. The plasma was generated by Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) at atmospheric pressure using ambient atmosphere. Surface free energy of silicon was investigated by contact angle measurement and surface morphology was studied by Atomic force microscope. Plasma treatment increases the surface wettability and AFM measurements showed that the plasma influences also the surface roughness.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.