Behaviour of hybrid PVD-PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene atmosphere

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Chování hybridního PVD-PECVD procesu Ti rozprašování v argonové a acetylenová atmosféře
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2010
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Potential and Applications of Nanotretment of Medical Surface
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	magnetron sputtering; modelling; hybrid process; hysteresis
Popis	Hybridní naprašovací process PVD-PECVD byl studován pro případ rozprašování titanového terče v atmosféře argon, acetylen. Hybridní PVD-PECVD proces kombinuje aspekty obvyklého rozprašování kovového terče s plynným uhlovodíkem, který je zdrojem uhlíku. Zde prezentujeme a diskutujeme výrazné rozdíly mezi chováním obvyklého reaktivního magnetronového naprašování s takovýmto hybridním procesem.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace