Behaviour of hybrid PVD-PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene atmosphere

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Chování hybridního PVD-PECVD procesu Ti rozprašování v argonové a acetylenová atmosféře
Autoři

SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr

Rok publikování 2010
Druh Článek ve sborníku
Konference Potential and Applications of Nanotretment of Medical Surface
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova magnetron sputtering; modelling; hybrid process; hysteresis
Popis Hybridní naprašovací process PVD-PECVD byl studován pro případ rozprašování titanového terče v atmosféře argon, acetylen. Hybridní PVD-PECVD proces kombinuje aspekty obvyklého rozprašování kovového terče s plynným uhlovodíkem, který je zdrojem uhlíku. Zde prezentujeme a diskutujeme výrazné rozdíly mezi chováním obvyklého reaktivního magnetronového naprašování s takovýmto hybridním procesem.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.