Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Vilv teploty neutrálního plynu na reaktivní magnetronové naprašování
Autoři

SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr

Rok publikování 2010
Druh Článek ve sborníku
Konference Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova magnetron sputtering; modelling; temperature; hysteresis
Popis Teplota je důležitým parametrem, který ovlivňuje celý rozprašovací proces. Pro vyšetření vlivu různých teplot v reaktoru na hysterezní chování při procesu rozprašování byl použit model reaktivního magnetronového naprašování. Prezentuje posun ve skocích mezi dvěma módy reaktivního rozprašováního procesu.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.