Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně
Autoři	VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza
Rok publikování	2009
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev