Modelling of the reactive sputtering process with non-uniform discharge current density and different temperature conditions

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami
Autoři	VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2009
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Plasma Sources Science and Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	magnetron sputtering; reactive; Berg
Popis	Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami, článek
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev