Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu
Autoři	VAŠINA Petr DVOŘÁK Pavel
Rok publikování	2009
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Book of Contributed Papers of 17th Symposium on Applications of Plasma Processes
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive sputtering
Popis	Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu, konferenční sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev