Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2008
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Chemické Listy
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive magnetron sputtering
Popis	Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu, článek, mezioborova studie
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev