Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
Autoři

DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr

Rok publikování 2008
Druh Článek ve sborníku
Konference Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Popis Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.