Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Plazmochemická depozice tvrdých DLC/SiOx vrstev z metanu a hexametyldisiloxanu
Autoři

ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma VALTR Miroslav PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna HOUDKOVÁ Jana

Rok publikování 2005
Druh Článek ve sborníku
Konference 17th International Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova DLC; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD
Popis V tomto článku jsou ukázány některé nové výsledky získané při studiu depozice a vlastností již dříve studovaných DLC/SiOx vrstev připravených ze směsi CH4 a HMDSO. Tyto vrstvy jsou dále srovnávány s vrstvami připravenými ze směsi CH4/HMDSO/H2 za použití jiného generátoru. Je ukázáno, že podstatná nevýhoda DLC vrstev, tj. vysoké vnitřní pnutí, špatná tepelná stabilita a absorpce ve viditelné oblasti, mohou být eliminovány přidáním komponenty SiO2 do vrstev. Docházíme k závěru, že tato skutečnost je obecnou vlastností DLC/SiOx vrstev nezávisle na postupu přípravy i rozdílné struktuře. Nicméně konkrétní vlastnosti vrstev mohou být dále optimalizovány změnou depozičních podmínek, což je ukázáno na vyšší tvrdosti vrstev z CH4/HMDSO/H2 ve srovnání s CH4/HMDSO.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.