Electrical Properties of SiOxHyCz Coatings Prepared by PECVD
Název česky | Elektrické vlastnosti vrstev SiOxHyCz připravených PECVD |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2005 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | 15th Symposium on Aplications of Plasma Processes |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | thin films; electrical properties |
Popis | U MIM struktur můžeme pozorovat dva druhy elektrické vodivosti, které můžou být buď limitované elektrodami (Schottyho amise, tunelování) a nebo procesy zapřičiněné objemovými procesy v dielektriku (Poole-Frenkelova vodivost). Vrsvy připravené PECVD vykazují Poole-Frenkelovu vodivost při nižších napětích a při vyšších vykazují tunelování. |
Související projekty: |