Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

SONNENFELD Axel TUN T. M. ZAJÍČKOVÁ Lenka KOZLOV K. V. WAGNER H.-E. BEHNKE J. F. HIPPLER R.

Rok publikování 2001
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Plasmas and Polymers
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova DBD
Popis Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.