Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SONNENFELD Axel TUN T. M. ZAJÍČKOVÁ Lenka KOZLOV K. V. WAGNER H.-E. BEHNKE J. F. HIPPLER R.
Rok publikování	2001
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Plasmas and Polymers
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	DBD
Popis	Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison
Související projekty:	Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu