The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

SONNENFELD Axel TUN T. M. ZAJÍČKOVÁ Lenka WAGNER Hans-Erich BEHNKE J. B. HIPPLER R.

Rok publikování 2001
Druh Článek ve sborníku
Konference Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Popis The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.