Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films on electrospun polymer nanofibers

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

ZAJÍČKOVÁ Lenka KEDROŇOVÁ Eva HEGEMANN Dirk MIKMEKOVÁ Eliška KLÍMA Miloš MICHLÍČEK Miroslav

Rok publikování 2013
Druh Článek ve sborníku
Konference Book of Contributed Papers: 19th Symposium on Application of Plasma Processes
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://neon.dpp.fmph.uniba.sk/sapp
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova PECVD; organosilocon layers; nanofibers
Popis Organosilicon plasma polymers were prepared from hexamethyldisiloxane / argon mixtures in low pressure rf discharges with capacitive coupling and by cold rf plasma multi-jet working at atmospheric pressure. The frequency of applied voltage was in both cases 13.56 MHz. The films were prepared on PVA and PA6 electrospun fabrics and on silicon and glass substrates for reference purposes. The coatings were characterized by scanning electron microscopy (SEM), Fourier transform infrared spectroscopy, atomic force microscopy and contact angle measurement. SEM revealed that the microstructure of coatings differed significantly when changing the plasma conditions.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.