Zařízení pro měření tloušťky polovodičových vrstevnatých struktur SOI

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	MÜNZ Filip HUMLÍČEK Josef
Rok publikování	2014
Druh	Výsledky s právní ochranou
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
www	http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0027/uv027013.pdf
Popis	Technické řešení se týká zařízení pro měření tloušťky polovodičových vrstevnatých struktur SOI optickou metodou ve VIS/NIR oblasti s přesností cca 30 nm v rozsahu 1-10 mikrometrů; zahrnuje zdroj záření, optická vlákna, skener, spektrometr, řídící elektroniku a počítač.
Související projekty:	Struktury SOI pro pokročilé polovodičové aplikace