Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2012
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Chemické listy
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive magnetron sputtering; modelling; target utilization
Popis	The paper deals with modelling of reactive magnetron sputtering of titanium with focus on changes in target utilization.
Související projekty:	Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev