Effect of plasma treatment on the surface morphology and wettability of (111) and (100) silicon wafers

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Efekt plazmové úpravy na morfologii a smáčivost povrchů křemíku (111) a (100)
Autoři

SKÁCELOVÁ Dana HANIČINEC Martin SŤAHEL Pavel ČERNÁK Mirko

Rok publikování 2011
Druh Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Popis This paper is focused on the plasma treatment of silicon surface. The effect of plasma treatment in dependence of the different crystallographic orientation of silicon surface,(100) plane and (111) plane is compare
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.