Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Komplexní analýza SiOxCyHz vrstev deponovaných APDBD
Autoři

SCHÄFER Jan HORN Stefan FOEST Rüdiger BRANDENBURG Ronny VAŠINA Petr WELTMANN Klaus-Dieter

Rok publikování 2011
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface & Coatings Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova SILVER NANOPARTICLES; PLASMA; JET
Popis SiOx vrstvy byly připraveny s využitím atmosférického DBD výboje z HMDSO a silanu. Byla provedena studie vlivu parametrů výboje na složení, mikrostrukturu a tloušťku vrstvy.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.