Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Potlačené hysterezní chování naprašování titanu v acetylenu
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2010
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. Modelling of hybrid PVD-PECVD process.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace