Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny
Autoři	VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza
Rok publikování	2009
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev