Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2009
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	modelling; magnetron
Popis	Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev