Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku
Autoři

SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr

Rok publikování 2009
Druh Článek ve sborníku
Konference Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova modelling; magnetron
Popis Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku, sborník
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.