Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
Autoři	VAŠINA Petr DVOŘÁK Pavel
Rok publikování	2009
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Europhysics Letters
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Popis	Popis velmi citlivé metody monitorování stavu vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování pomocí sledování amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných výbojem.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev