Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
Autoři

VAŠINA Petr DVOŘÁK Pavel

Rok publikování 2009
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Europhysics Letters
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Popis Popis velmi citlivé metody monitorování stavu vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování pomocí sledování amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných výbojem.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.