DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Autoři	STUDNIČKA Filip TRUNEC David SŤAHEL Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma KELAR Lukáš
Rok publikování	2008
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	plasma deposition
Popis	Článek se zabývá depozicí tenkých vrstev v atmosférickém homogenním výboji ve směsi N2 + HMDSO + O2. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly změřeny metodou indentační a tvrdost vrstev byla v rozmezí 0.5 až 7 GPa v závislosti na depozičních podmínkách.
Související projekty:	Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku