Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Organosilikonové tenké vrstvy připravené metodou PECVD: termálně indukované změny chemické struktury a mechanických vlastností
Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUČEROVÁ Zuzana FRANCLOVÁ Jana SŤAHEL Pavel PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna
Rok publikování	2007
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of Physics and Chemistry of Solids
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Thin films;Organometallic compounds;Plasma deposition;Infrared spectroscopy;Mechanical properties
Popis	Tenké organosilikonové vrstvy a vrstvy oxidu křemíku byly deponovány ve v.f. kapacitně vázaném výboji ze směsi HMDSO s kyslíkem
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou