Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Organosilikonové tenké vrstvy připravené metodou PECVD: termálně indukované změny chemické struktury a mechanických vlastností
Autoři

ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUČEROVÁ Zuzana FRANCLOVÁ Jana SŤAHEL Pavel PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna

Rok publikování 2007
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Physics and Chemistry of Solids
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Thin films;Organometallic compounds;Plasma deposition;Infrared spectroscopy;Mechanical properties
Popis Tenké organosilikonové vrstvy a vrstvy oxidu křemíku byly deponovány ve v.f. kapacitně vázaném výboji ze směsi HMDSO s kyslíkem
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.