Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Depozice ochranných vrstev ve vysokofrekvenčních výbojích v parách organosilikonu
Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUČEROVÁ Zuzana FRANTA Daniel DVOŘÁK Pavel ŠMÍD Radek PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna
Rok publikování	2007
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Plasma Sources Science and Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	CARBON-FILMS; GLOW-DISCHARGES; PLASMA; PECVD; POLYCARBONATE; SUBSTRATE
Popis	Článek diskutuje depozici různých typů ochranných vrstev, organosilikonových plazmových polymerů, SiO2 vrstev a tvrdých uhlíkových diamantu podobných vrstev s obsahem SiOx (DLC:SiOx), ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji s použitím hexametyldisiloxanu (HMDSO). Vrstvy připravené z HMDSO/CH4 a HMDSO/CH4/H2 směsí vykazovaly atraktivní vlastnosti DLC vrstev s částečným optlačením jejich některých nevýhod jako jsou absorpce ve viditelné oblasti a vysoké vnitřní pnutí.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou