Deposition of thin films at higher substrate temperatures in atmospheric pressure glow discharge

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Depozice tenkých vrstev za vysších teplot substrátu v atmosférickém doutnavém výboji
Autoři

TRUNEC David ŠÍRA Martin SŤAHEL Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma FRANTA Daniel

Rok publikování 2006
Druh Článek ve sborníku
Konference 10th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova thin films; glow discharge; atmospheric pressure
Popis Byly nadeponovány tenké organosilikonové vrstvy v atmosférickém doutnavém výboji. Plasma bylo zapáleno v dusíku s malou příměsí monomeru hexametyldisiloxanu (HMDSO). Aby byly dosaženy vyšší tvrdosri tenkých vrstev, byla teplota substrátu zvýšena až na 120 stupňů celsia. Homogenita tenkých vrstev byla zvýšena použitím pohyblivé horní elektrody. Pomocí měření elektrických veličin bylo ukázáno použití doutnavého režimu. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly určeny indentačními technikami. Vrstvy byly transparentní ve viditelné oblasti spektra.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.