PtSi formation on silicon substrate

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Silicidace platiny na Si substrátu
Autoři

BOCHNÍČEK Zdeněk ČECHAL Jan ŠIKOLA Tomáš KRČMÁŘ Jan

Rok publikování 2004
Druh Článek ve sborníku
Konference 22nd European Crystallographic Meeting, Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova PtSi; silicide; x-ray diffraction;
Popis Silicidace platiny na Si substrátu byla sledována metodou rtg difrakce při žíhání in-situ. Z kinetiky vzniku vrstev Pt2Si a PtSi byly za použití Kissingerovy analýzy určeny aktivační energie obou transformací. Bylo ukázáno, že silicidace je silně závislá na přítomnosti dusíku v atmosféře při žíhání.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.