Ellipsometry in characterization of thin films
| Název česky | Elipsometrie při charakterizaci tenkých vrstev |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proceedings of the SREN 2005 |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/SREN05_81.html |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | Ellipsometry; Thin films |
| Popis | V tomto článku jsou stručně presentovány principy elipsometrie spolu s popisem hlavních elipsometrických technik. Obecná klasifikace elipsometrických metod významných s praktického hlediska je provedena rovněž. Dále jsou uvedeny i principy optické charakterizace systémů tenkých vrstev. Tudíž hlavní kroky pro vytvoření strukturních modelů tenkovrstevných systémů jsou popsány spolu s klasifikací matematického formalismu použitelného pro pro odvození rovnic vhodných pro optickou charakterizaci zmíněných systémů. Tři důležité dispersní modely nám umožňující vyjádřit spektrální závislosti optických konstant amorfních dielektrických a polovodičových tenkých vrstev v rámci široké spektrální oblasti jsou také popsány, tj. Tauc-Lorentz model, Ferlauto et al model a model založený na parametrizaci hustoty elektronových stavů jsou diskutovány. Tři příkladyoptické charakterizace tenkých vrstev jsou ilustrovány, tj. výsledky optické charakterizace polymorfních křemíkových vrstev, As-S chalkogenidových vrstev a TiO2 vrstev dosažené pomocí elipsometrických metod kombinovaných se spektrofotometrickými metodami jsou presentovány a diskutovány. Možnost využití těchto metod pro charakterizaci vrstev používaných pro vytváření solárních článků jsou rovněž uvedeny. |
| Související projekty: |