Optical characterization of non-uniform thin films using imaging spectrophotometry
| Název česky | Optická charakterizace neuniformních tenkých vrstev pomocí zobrazovací spektrofotometrie |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Advances in Optical Thin Films II |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Optika, masery a lasery |
| Klíčová slova | Non-uniforn Thin Films; Imaging Spectrophotometry; Epitaxial ZnSe Thin Films |
| Popis | V článku je popsána metoda zobrazovací spektrofotometrie, která umožňuje charakterizovat neabsorbující tenké vrstvy neuniformní v optických parametrech. Tato metoda je založena na interpretaci spektrálních závislostí lokální absolutní odrazivosti naměřených při kolmém dopadu světla. Je ukázáno jak určit plošné rozdělení tloušťky a indexu lomu neabsorbujících neuniformních tenkých vrstev zpracováním těchto odrazivostí. Navíc zobecnění metody pro optickou charakterizaci slabě absorbujících neuniformních tenkých vrstev je také naznačena. Kromě toho je popsán dvoukanálový zobrazovací spektrofotometr dovolující aplikovat metodu zobrazovací reflektometrie. Metoda pro určení spektrálních závislostí lokální absolutní odrazivosti v bodech seřazených do matice umístěné na osvětlené ploše neuniformní vrstvy pomocí spektrofotometru je také presentována. Praktické výhody metody jsou specifikovány. Metoda je ilustrována pomocí optické charakterizace vybrané epitaxní tenké vrstvy ZnSe připravené použitím molekulové svazkové epitaxie na podložku tvořenou monokrystalem galium arsenidu. |
| Související projekty: |