Electrical and dielectrical properties of SiOxHyCz thin films prepared by PECVD

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Elektrické a dielektrické vlastnosti tenkých vrstev SiOxHyCz připravených PECVD
Autoři	FRANCLOVÁ Jana BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2005
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Juniormat 05
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Dielectrical properties; Frenkel-Poole conduction
Popis	Tenké vrstvy SiOxHyCz připravené plazmochemickou depozicí o tloušťce 100 - 500 nm vykazují Frenkel-Poole efekt. Velikost Frenkel-Poolova koeficientu roste s depoziční dobou.
Související projekty:	Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek