Electrical and dielectrical properties of SiOxHyCz thin films prepared by PECVD

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Elektrické a dielektrické vlastnosti tenkých vrstev SiOxHyCz připravených PECVD
Autoři

FRANCLOVÁ Jana BURŠÍKOVÁ Vilma

Rok publikování 2005
Druh Článek ve sborníku
Konference Juniormat 05
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Dielectrical properties; Frenkel-Poole conduction
Popis Tenké vrstvy SiOxHyCz připravené plazmochemickou depozicí o tloušťce 100 - 500 nm vykazují Frenkel-Poole efekt. Velikost Frenkel-Poolova koeficientu roste s depoziční dobou.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.