Characterization of thin oxide films on GaAs substrates by optical methods and atomic force microscopy

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Charakterizace tenkých oxidových vrstev na GaAs podložkách pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly
Autoři

FRANTA Daniel OHLÍDAL Ivan KLAPETEK Petr OHLÍDAL Miloslav

Rok publikování 2004
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface and Interface Analysis
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/SIA36_1203.html
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova THERMAL-OXIDATION; ROUGH BOUNDARIES; LAYERS
Popis V tomto článku jsou uvedeny výsledky charakterizace tenkých oxidových vrstev připravených na podložkách z monokrystalu GaAs jejich termickou oxidací při teplotě 500o C ve vzduchu. Charakterizace je realizována pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly. Optická charakterizace je provedena využitím vícevzorkové modifikace metody založené na kombinaci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie aplikované při téměř kolmém dopadu světla. Je ukázáno, že vrstvy vykazují drsná spodní rozhraní a profil indexu lomu. Spektrální závislosti indexu lomu a extinkčního koeficientu těchto vrstev jsou presentovány v široké spektrální oblasti, tj. v oblasti 210-900 nm. Hodnoty tlouštěk a parametrů drsnosti charakterizující oxidové vrstvy jsou také uvedeny.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.