Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
Autoři

FRANCLOVÁ Jana KUČEROVÁ Zuzana BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka PEŘINA Vratislav

Rok publikování 2004
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Czech. J. Phys.
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Deposited films; plasma enhanced CVD; HMDSO; FTIR; RBS
Popis Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.