Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
Autoři	FRANCLOVÁ Jana KUČEROVÁ Zuzana BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka PEŘINA Vratislav
Rok publikování	2004
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Czech. J. Phys.
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace	FRANCLOVÁ, Jana, Zuzana KUČEROVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vratislav PEŘINA. Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing. Czech. J. Phys. Praha: Institute of Physics Academy of Sciences, 2004, roč. 2004, č. 54, s. C847-C852, 6 s. ISSN 0011-4626.
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Deposited films; plasma enhanced CVD; HMDSO; FTIR; RBS
Popis	Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
Související projekty:	Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek