Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Fakultu informatiky. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	VALTR Miroslav ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2003
Druh	Článek ve sborníku
Konference	JUNIORMAT 03
Fakulta / Pracoviště MU	Fakulta informatiky
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	plasma;DLC;films;methane;HMDSO;pecvd;radio frequency;discharge;FTIR;normalized absorbance
Popis	Hard diamond like carbon (DLC) films with an addition of SiOx were deposited by capacitively coupled rf discharges from mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). The flow rate was changed in order to vary the SiOx content in the films. Thickness of the films was determined by ellipsometry. FTIR spectra showed presence of C-H bonds as well as silicon bonded to hydrogen and hydrocarbon groups. In the region 630-900 cm-1 normalized absorbance was computed. It is shown that the concentration of silicon containing bonds grows with the flow rate of HMDSO growing.
Související projekty:	Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek