Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Fakultu informatiky. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

VALTR Miroslav ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma

Rok publikování 2003
Druh Článek ve sborníku
Konference JUNIORMAT 03
Fakulta / Pracoviště MU

Fakulta informatiky

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova plasma;DLC;films;methane;HMDSO;pecvd;radio frequency;discharge;FTIR;normalized absorbance
Popis Hard diamond like carbon (DLC) films with an addition of SiOx were deposited by capacitively coupled rf discharges from mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). The flow rate was changed in order to vary the SiOx content in the films. Thickness of the films was determined by ellipsometry. FTIR spectra showed presence of C-H bonds as well as silicon bonded to hydrogen and hydrocarbon groups. In the region 630-900 cm-1 normalized absorbance was computed. It is shown that the concentration of silicon containing bonds grows with the flow rate of HMDSO growing.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.