Analysis of the boundaries of ZrO2 and HfO2 thin films by atomic force microscopy and the combined optical method

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

KLAPETEK Petr OHLÍDAL Ivan FRANTA Daniel POKORNÝ Pavel

Rok publikování 2002
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface and Interface Analysis
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.physics.muni.cz/~franta/bib/SIA34_559.html
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova ZrO2 and Hfo2 films; AFM; optical methods; rough upper boundaries
Popis In this paper an atomic force microscopy analysis of the microrough upper boundaries of ZrO2 and HfO2 thin films is presented. Within this analysis the values of the width, root-mean-square value of heights and power spectral density function of these boundaries are determined for ZrO2 and HfO2 exhibiting different thicknesses. The thickness dependences of the quantities mentioned are introduced. The values of the thicknesses of the films are evaluated using the combined optical method. This optical method is also used to describe boundary microroughness within the effective medium theory. A discussion of the results concerning the microroughness of the upper boundaries of both the ZrO2 and HfO2 thin films is also introduced.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.