Influence of Discharge Parameters on Composition of Films Deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane/Oxygen Mixtures

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka PEŘINA Vratislav BURŠÍKOVÁ Vilma MACKOVÁ Anna JANČA Jan
Rok publikování	2000
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Abstracts of Invited Lectures and Contributed Papers, XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Thin Films; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD; FTIR; Polycarbonate
Popis	The composition of films, deposited from hexamethyldisiloxane/oxygen mixtures was studied by FTIR transmittance measurements, Rutherford backscattering method (RBS) and elastic recoil detection (ERD). Films were characterized by the ellipsometry, the morphology of the film surfaces was studied by SEM and the mechanical properties of films were characterized by Vickers indentation technique.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek