Plasmachemical Deposition of Thin Films

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	JANČA Jan ZAJÍČKOVÁ Lenka
Rok publikování	2000
Druh	Článek ve sborníku
Konference	4th Czech-Russian Seminar on Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Temperature Plasma
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	plasma chemical deposition; Thin Films. hard films; plasma polymers; diamond-like
Popis	PECVD deposition of thin films in RF and MW plasma. Hard diamond-like carbon thin films. Transparent SiOx thin films. Polycrystalline diamond.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek