Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	KRUMPOLEC Richard ČERNÁK Mirko ZELENÁK František
Rok publikování	2022
Druh	Patent
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Vydavatel	Úřad průmyslového vlastnictví
Stát vydání	Česká republika
Číslo patentu	309452
www	Patentový spis - Udělený patent
Popis	Metoda řeší problematiku přípravy redukovaného grafen oxidu (rGO). Redukce a exfoliace grafen oxidu (GO) je jedna z možností výroby grafenu a grafenu podobných materiálů s zajímavými elektrickými, tepelnými a mechanickými vlastnostmi. Metoda využívá nízkoteplotní neizotermické plazma generované při atmosférickém tlaku. Způsob se týká spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu s obsahem oxidu grafenu pro zvýšení celkové elektrické vodivosti a specifického povrchu porézního materiálu a jeho podstata spočívá v tom, že se vygenerováním plazmatu v těsné blízkosti a uvnitř pouze části z celkového objemu redukovaného-exfoliovaného porézního materiálu spustí samovolně šířící proces redukce-exfoliace oxidu grafenu, přičemž pro vygenerování spouštěcího plazmatu jsou splněny konkrétní parametry.
Související projekty:	R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications