Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

KRUMPOLEC Richard ČERNÁK Mirko ZELENÁK František

Rok publikování 2022
Druh Patent
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Vydavatel Úřad průmyslového vlastnictví
Stát vydání Česká republika
Číslo patentu 309452
www Patentový spis - Udělený patent
Popis Metoda řeší problematiku přípravy redukovaného grafen oxidu (rGO). Redukce a exfoliace grafen oxidu (GO) je jedna z možností výroby grafenu a grafenu podobných materiálů s zajímavými elektrickými, tepelnými a mechanickými vlastnostmi. Metoda využívá nízkoteplotní neizotermické plazma generované při atmosférickém tlaku. Způsob se týká spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu s obsahem oxidu grafenu pro zvýšení celkové elektrické vodivosti a specifického povrchu porézního materiálu a jeho podstata spočívá v tom, že se vygenerováním plazmatu v těsné blízkosti a uvnitř pouze části z celkového objemu redukovaného-exfoliovaného porézního materiálu spustí samovolně šířící proces redukce-exfoliace oxidu grafenu, přičemž pro vygenerování spouštěcího plazmatu jsou splněny konkrétní parametry.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.