Strain relaxation and misfit dislocations in compositionally graded Si 1-x Ge x layers on Si (001)

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

LI J.H. HOLÝ Václav

Rok publikování 1995
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Crystal Growth
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.