GROWTH OF SILICON NANOWIRES BY THERMAL ANNEALING OF THICK GOLD CATALYTIC LAYER ON SILICON SUBSTRATE UNDER DIFFERENT ATMOSPHERES

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Růst křemíkových nanodrátků termickým žíháním katalytické vrstvy zlata v různých atmosférách
Autoři	ŠPERKA Jiří JAŠEK Ondřej ZAJÍČKOVÁ Lenka HAVEL Josef
Rok publikování	2015
Druh	Článek ve sborníku
Konference	NANOCON 2015: 7TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOMATERIALS - RESEARCH & APPLICATION
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	konferenční stránka
Obor	Teoretická fyzika
Klíčová slova	Nanowires; Silicon; Gold; Eutectics; Surface processes
Popis	Křemíkové nanodrátky rostly na Si substrátu termíckým žíháním katalytické vrstvy zlata. 100 nm tlustá vrstva zlata na Si připravená magnetronovým naprašováním byla žíhána za teploty 1000 C po dobu 60 minut v argonové a vodíkové atmosféře při tlaku 8 kPa. Bylo zjištěno, že ve vodíkové atmosféře lze pozorovat růst nanodrátků zatímco v argonů byl růst jen sporadický. Morfologie a složení vrstvy bylo zkoumáno metodami AFM a LDI TOF spektrospkopií. Struktura nanodrátků byla zkoumána pomocí metod SEM a EDX spektroskopií.
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy CEITEC - středoevropský technologický institut