PECVD of nanostructured SiO2 in a modulated microwave plasma jet at atmospheric pressure

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

HNILICA Jaroslav SCHÄFER Jan FOEST Rüdiger ZAJÍČKOVÁ Lenka KUDRLE Vít

Rok publikování 2013
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj J. Phys. D: Appl. Phys.
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://iopscience.iop.org/0022-3727/46/33/335202/
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/46/33/335202
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova PECVD; modulated; microwave; plasma jet; atmospheric pressure
Přiložené soubory
Popis We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a microwave plasma jet operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS).
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.